О планах Intel рассказал глава компании Лип-Бу Тан во время конференции JP Morgan. По его словам, производители и партнеры сегодня выбирают не только текущие продукты, но и будущее поставщика, поэтому Intel необходимо заранее демонстрировать развитие своих технологий на годы вперед.
Параллельно компания продолжает работу над техпроцессом Intel 14A. Сейчас Intel уже предоставляет партнерам версию 0.5 PDK — набора инструментов для проектирования чипов, а выпуск более зрелой версии 0.9 PDK ожидается в октябре. Именно этот этап внутри компании называют ключевым, поскольку он позволяет клиентам оценить перспективы массового производства и выход годных кристаллов.
Лип-Бу Тан также подтвердил, что несколько крупных клиентов уже проявили интерес к 14A, хотя их имена пока не раскрываются. Intel рассчитывает начать опытное производство по этому техпроцессу в 2028 году, а массовый выпуск — примерно в 2029-м.
Одной из главных особенностей Intel 14A станет поддержка EUV-литографии с высокой числовой апертурой — High-NA EUV. Эта технология считается следующим крупным шагом в производстве полупроводников и позволит создавать более плотные и сложные чипы. Однако переход на новое оборудование ASML требует полной перестройки экосистемы: новых фотошаблонов, материалов, правил проектирования и вычислительной литографии.
Intel уже активно сотрудничает с ASML, чтобы подготовить инфраструктуру к внедрению High-NA EUV. По данным главы ASML Кристофа Фуке, первые тестовые чипы, произведенные с использованием этой технологии, могут появиться уже в ближайшие месяцы.
Компания явно пытается вернуть себе позиции технологического лидера на фоне конкуренции с TSMC, которая также готовит собственный техпроцесс A14. При этом Intel делает акцент не только на производительности, но и на технологиях питания с обратной стороны кристалла, которые особенно важны для серверных и ИИ-ускорителей следующего поколения.
